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管式光亮退火爐

發布者:1分快三彩票平台网址 發布時間:2020-8-31 16:19:45 點擊次數:442 關閉

    退火爐是用于制造半導體器件的工藝,包括加熱多個半導體晶片以影響它們的電性能。熱處理是為不同的效果而設計的。晶片可以被加熱以激活摻雜劑、將薄膜轉換成薄膜或晶片襯底界面、密集沉積薄膜、改變生長薄膜的狀態、修復注入的損傷、將摻雜劑從一個薄膜移動或轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶片襯底。 
    退火爐可以集成到其他爐處理步驟中,例如氧化,或者可以單獨處理。退火爐由專門設計用于加熱半導體晶片的設備完成。退火爐是一種超節能結構和纖維結構的節能周期運行爐,節電60%。


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